उत्पत्ति के प्लेस: | बीजिंग, चीन |
ब्रांड नाम: | ZOHONICE |
प्रमाणन: | CE |
मॉडल संख्या: | F117 |
न्यूनतम आदेश मात्रा: | एक सेट |
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मूल्य: | Negotiation |
पैकेजिंग विवरण: | लकड़ी का बक्सा |
प्रसव के समय: | आपके भुगतान के बाद 3-7 कार्य दिवसों |
भुगतान शर्तें: | टी / टी, वेस्टर्न यूनियन, मनीग्राम, वीजा क्रेडिट |
आपूर्ति की क्षमता: | प्रति माह 100 सेट |
फ़ीचर: | फेस लिफ्ट, स्किन टाइटनिंग, रिंकल रिमूवर | वोल्टेज: | 110V-220V 50Hz / 60Hz |
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उपचार की गहराई: | 1.5 मिमी / 3.0mm / 4.5mm / 8.0mm10mm / 13 मिमी / 16 मिमी | काम का सिद्धांत: | उच्च तीव्रता केंद्रित अल्ट्रासाउंड |
स्क्रीन: | रंग टच स्क्रीन | उपचार क्षेत्र: | चेहरा, गर्दन और शरीर का आकार |
गारंटी: | 1 साल | शक्ति: | 150W |
हाई लाइट: | 4D अल्ट्रासाउंड लिफ्ट मशीन,9D अल्ट्रासाउंड लिफ्ट मशीन,अल्ट्रासाउंड शिकन हटाने की मशीन |
2 में 1 9D 4D hifu + thermagic rf त्वचा कस शिकन हटाने मशीन,
आवेदन
1. गैर-सर्जिकल फेस लिफ्टिंग
2. रिंकल रिडक्शन
3. मजबूत कसने
4.किन कायाकल्प (श्वेतकरण)
5. अधिक कटौती
6. स्केन निशान
7.Scars
8.स्रेच मार्क्स
पैरामीटर
विवरण | 9D Hifu मशीन +Thermagic + आरएफ |
वोल्टेज | 110V-130V / 60Hz, 220V-240V / 50Hz |
शक्ति | 2000W |
कारतूस की संख्या | मानक: 3.0 मिमी, 4.5 मिमी |
Thermagic: 0-1.1mm, 0-4.4mm, 4.4-13mm | |
कार्ट्रिज शॉट्स | 10000 शॉट्स |
काम प्रणाली | पल्स डिजिटल आउटपुट मोड |
ऊर्जा | 0.2J-2.0J (एडजस्टेबल: 0.1 जे / स्टेप)) |
दूरी | 1.0-10 मिमी (एडजस्टेबल: 0.5 मिमी / कदम) |
लंबाई | 5.0-25 मिमी (एडजस्टेबल: 1.0 मिमी / स्टेप) |
आवृत्ति | 4Hz |
पैकिंग आकार | 69x49x24cm |
NW | 10kgs |
सिद्धांत
यह नवीनतम पुनरावृत्ति है, और अपने पूर्ववर्ती की तरह, यह भी अंदर से बाहर त्वचा को गर्म करने के लिए आरएफ ऊर्जा का उपयोग करता है।एक समान प्रभाव में त्वचा की सतह के नीचे गहरी ऊर्जा प्रदान करके, कोलेजन का उत्पादन करने वाली त्वचा की परतों को मौजूदा कोलेजन को चिकना करने और नए कोलेजन बनाने के लिए गर्म किया जाता है।
लाभ
◆ 12 lInes तक ht एक शॉट में हो सकती है, और अधिकतम ऊर्जा क्षेत्र wldth 10mm है।पृष्ठ 4 की त्वचा के क्षेत्र में प्रवेश करें
Page5 sIze के पत्राचार मापदंडों का पालन करें, ऑपराटन समय को बहुत छोटा करें, खोपड़ी पर ऊर्जा ध्रुव बनाएं
अधिक असूचीबद्ध, और प्रभाव बेहतर है।
Accord सबसे उन्नत हाई-टेक तकनीक का उपयोग, दो उपचार प्रमुखों के साथ equlpped है जो चेहरे की स्किन कंडेल के अनुरूप है-
tlon, सटीक रूप से अलग-अलग skIn की गहराई पर अभिनय करते हुए, ऊर्जा एप्लाइडर्मल डर्ंग ट्रीटमेंट से अधिक लुढ़क गई है, 100% किसी भी तरह से
क्षति।एक ही समय में, उपचार सिर की त्वचा की गहराई निर्धारित मूल्य के अनुरूप है ताकि यह सुनिश्चित हो सके कि कस्टम-
एर इश्करहित और सहज है।
Al त्वचीय कोलेजन और कोलेजन लपटों पर थर्मल इफेक्ट भी वसा की परत और fasda परत (SMAS) के लिए थर्मल stmulaton है,
और चिकित्सीय प्रभाव थर्मल मैगल की तुलना में कहीं बेहतर है।
गारंटी
1) 1 वर्ष के भीतर, अगर कुछ गौण गलत हो रहा है, तो हम आपको एक बार में गौण भेज देंगे, नि: शुल्क
2) 1 महीने के भीतर, अगर मशीन किसी भी बड़ी विफलता की है, तो हम आपको एक नई मशीन भेजेंगे,
3) 1 वर्ष के भीतर, यदि आप मरम्मत के लिए उपकरण वापस भेजते हैं, तो हम मरम्मत के लिए जिम्मेदार होंगे, जिसमें सामान का परिवर्तन भी शामिल है, दोनों ही मुफ्त हैं,
4) 1 वर्ष के बाद, हम मशीन की मरम्मत करने की पेशकश करते हैं, लेकिन हमें बदले हुए भागों की लागत की आवश्यकता होती है, मैनुअल लागत के लिए नहीं,
5) मानव निर्मित विनाश के लिए कोई जिम्मेदारी नहीं,
6) अगर खरीदार के पास हमारे तकनीकी विभाग से कोई सवाल है, तो हम ऑन-लाइन सेवा प्रदान कर सकते हैं,
सामान्य प्रश्न
क्यूकैसे 3 डी HIFU चेहरा उपचार काम करता है?
ए.Focused अल्ट्रासाउंड ऊर्जा सीधे त्वचा की सतह से गुजरती है और त्वचा की गहरी परतों में कोलेजन उत्पादन को उत्तेजित करती है।यह लिफ्ट देता है, समर्थन में सुधार करता है और त्वचा को कसता है।आमतौर पर सिर्फ एक उपचार की आवश्यकता होती है।3 डी फेस एचआईएफयू को अन्य फेस स्कल्पिंग ट्रीटमेंट के साथ भी जोड़ा जा सकता है, जैसे कि डर्मल फिलर्स, को बढ़ाने के लिए।
क्यूयह 3 डी HIFU शरीर कैसे काम करता है?
ए। HIFU हाथ टुकड़ा वसा कोशिका के परिगलन का कारण सटीक गहराई के लिए फोकस्ड अल्ट्रासाउंड तरंगों को बचाता है।हैंडपीस के नियंत्रित आंदोलन से उपचारित वसा कोशिकाओं की एक ग्रिड बन जाती है।अल्ट्रासाउंड वेव की उच्च आवृत्ति के परिणामस्वरूप त्वचा के नीचे 1.5 मिमी और 8 मिमी में फोकल ज़ोन का तेजी से हीटिंग होता है, जिससे खाल की सतह अप्रभावित रहती है।हालाँकि यह ऊर्जा तापमान में बढ़ जाती है क्योंकि यह 3 डी HIFU की ऊर्जा के कारण त्वचा के भीतर गहरी हो जाती है जिससे कोशिकीय घर्षण पैदा होता है।इस उच्च तापमान पर वसा कोशिका के संपर्क में आने से तीव्र कोशिका मृत्यु (नेक्रोसिस) होती है।
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